粉底液高速剪切研磨分散機，粉底液研磨分散機，粉底液膠體磨，進口膠體磨，粉底液研磨設備，粉底液分散機，粉底液分散設備

    粉底液分散機使用皮帶輪按照1：3的比例變速，轉(zhuǎn)速可達9000rpm，通過變頻調(diào)節(jié)后轉(zhuǎn)速z高可達14000rpm，是普通國產(chǎn)膠體磨轉(zhuǎn)速的3-4倍，立式分體式結構，運行平穩(wěn)，符合衛(wèi)生級標準。

    粉底液研磨分散機采用了二級處理結構，*級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊，第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊，第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子，定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定轉(zhuǎn)子精密度都達到了水平。保證粉底液在達到研磨細度的基礎上，達到顆粒粒徑分布范圍小，乳液穩(wěn)定性高的效果。

粉底液高速剪切研磨分散機運行原理：

 在電動機的高速轉(zhuǎn)動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎。精磨區(qū)分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細化的目的。

研磨分散機的結構：

研磨分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出z終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

 ?

研磨分散機GMD2000系列的特點：

1、線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

• GRS2000小型納米白炭黑管線式分散機
• GMD2000蠕蟲膨脹石墨高剪切分散機
• GMD2000磷酸氫鈣混懸劑分散機
• GMD2000石墨烯富鋅底漆涂料分散機
• GMD2000納米金屬氧化物研磨分散機
• GRS2000納米白炭黑管線式分散機
• GMD2000光刻膠去除劑高剪切分散機
• GRS2000化學肥料高剪切乳化研磨分散機
• GMD2000藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機
• GRS2000磷酸氫鈣高剪切分散機