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產(chǎn)品名稱：
納米材料原位聚合法高速分散機
產(chǎn)品型號： GRS2000/4更新時間： 2025-01-12描述：SGN納米材料原位聚合法高速分散機可以處理量大，運轉(zhuǎn)更平穩(wěn)，拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)，粒徑分布范圍窄，分散效果佳，*，物料98%通過分散剪切。
產(chǎn)品介紹
納米材料原位聚合法高速分散機，高分子材料高速分散機，德國進口立式分散機，納米高速分散機，管線式高速分散機，SGN高速分散機，原位聚合法SGN高速分散機
SGN納米材料原位聚合法高速分散機可以處理量大，運轉(zhuǎn)更平穩(wěn)，拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)，粒徑分布范圍窄，分散效果佳，*，物料98%通過分散剪切。
分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學反應的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的"精細分布。
原位聚合法，顧名思義，就是把反應單體填充到納米層狀物的層間，讓其在層間發(fā)生聚合反應
原位聚合法原理原位聚合是一種把反應性單體(或其可溶性預聚體)與催化劑全部加入分散相(或連續(xù)相)中,芯材物質(zhì)為分散相。由于單體(或預聚體)在單一相中是可溶的,而其聚合物在整個體系中是不可溶的,所以聚合反應在分散相芯材上發(fā)生。反應開始,單體預聚,預聚體聚合,當預聚體聚合尺寸逐步增大后,沉積在芯材物質(zhì)的表面
如納米二氧化硅 即在位分散聚合，該法是應用在位填充技術，將納米SiO2在單體中分散均勻后，再進行聚合反應，原位聚合法的特點是既能使納米SiO2粒子均勻分在聚合物中，又保持了粒子的納米屬性，而且原位聚合法通常是一次聚合成型，無需進一步熱加工，因此避免了熱加工帶來降解的影響，保證了納米SiO2-聚合物基體的各種性能的穩(wěn)定。
SGN分散效果
影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點:
1 分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 分散頭的齒形結(jié)構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
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高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，思峻公司在GR2000系列的基礎上又開發(fā)出GRS2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過100.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備,
2、設備特點
⑴ GRS設備與傳統(tǒng)設備相比：
高效、節(jié)能
傳統(tǒng)設備需8小時的分散加工過程，GRS設備1小時左右完成，超細分散*，能耗極大降低；
高速、高品質(zhì)
傳統(tǒng)設備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn)，帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi)，只完成宏觀分散加工，超細分散能力極為有限；GRS設備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000～15000轉(zhuǎn)之間，超高線速度產(chǎn)生的剪切力，瞬間超細分散漿料中的粉體。
⑵GRS設備與同類設備相比：
多層多向剪切分散
同類設備的定轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構單一，多級多層的結(jié)構是單純重復性加工，相同的齒槽結(jié)構易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過工作腔的短路現(xiàn)象；
GRS設備的定轉(zhuǎn)子結(jié)構采用多層多向剪切概念，裝配式結(jié)構使物料得到不同方向剪切分散，杜絕了短路現(xiàn)象，超細分散更為*。
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